Avaliação da Redução da Poluição do Chorume Tratado por Processo Fotoquímico

Autores

  • Núbia Natália Brito Universidade Federal de Goiás
  • José Euclides Stipp Paterniani Universidade Estadual de Campinas - UNICAMP
  • Giovani Archanjo Brota Universidade Estadual de Campinas
  • Ronaldo Teixeira Pelegrini Universidade Federal de São Carlos

Resumo

Este trabalho teve como objetivo avaliar a redução da poluição do chorume proveniente do aterro sanitário da cidade de Limeira-SP, através de tratamento por processo fotoquímico utilizando H2O2/UV. Os estudos foram realizados em um reator de vidro Pyrex de capacidade volumétrica de 1.7 L (100 mm de diâmetro interno, 145 mm de diâmetro externo e altura total de 300 mm) equipado com sistema de refrigeração à água e recirculação do chorume. Os melhores resultados de reduções dos valores de alguns parâmetros de controle ambiental foram: 46 % de Carbono Orgânico Total (COT), 93 % de fenóis totais, 97 % de nitrogênio amoniacal e 91 % de redução da cor do chorume. Estes resultados foram alcançados utilizando as seguintes condições experimentais otimizadas: volume de H2O2 35 mL, adicionados ao reator em alíquotas de 15, 10, e 10 mL, temperatura 45oC, lâmpada de 400 Watts e tempo de tratamento de 90 minutos.

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Biografia do Autor

Núbia Natália Brito, Universidade Federal de Goiás

Profa.Dra do Instituto de Química da Universidade Federal de Goiás- UFG

José Euclides Stipp Paterniani, Universidade Estadual de Campinas - UNICAMP

Prof.Dr. da Faculdade de Engenharia Agrícola- Feagri-UNICAMP.

Giovani Archanjo Brota, Universidade Estadual de Campinas

Tecnológo em Saneamento Ambiental da Faculdade de Engenharia Agrícola- Feagri- UNICAMP

Ronaldo Teixeira Pelegrini, Universidade Federal de São Carlos

Prof.Dr. do Centro de Ciências Agrárias- CCA - UFSCAR

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Publicado

2011-10-19

Como Citar

Brito, N. N., Paterniani, J. E. S., Brota, G. A., & Pelegrini, R. T. (2011). Avaliação da Redução da Poluição do Chorume Tratado por Processo Fotoquímico. AUGM DOMUS, 3, 20–30. Recuperado de https://revistas.unlp.edu.ar/domus/article/view/99

Edição

v. 3 (2011)

Seção

Informes Técnicos

Licença

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